230166 / 2010-07-29 - Uczelnia publiczna / Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej (Warszawa)

Oryginalny toner 370AA307 Niebieski marki Kyocera = Mita

Cena: 729.88 PLN

Mikroskop metalograficzny w układzie odwróconym z kamerą do rejestracji oraz oprogramowaniem do archiwizacji i analizy obrazu

Opis zamówienia

Mikroskop metalograficzny musi posiadać następujące cechy: a) statyw mikroskopu metalograficznego w układzie odwróconym o konstrukcji odpornej na drgania zapewniający pracę w świetle odbitym, z możliwością podpięcia monitora LCD do bezpośredniego podglądu obrazu z mikroskopu; b) wszystkie pokrętła regulacyjne: przesłona polowa i aperturowa, dźwignia zmiany techniki badawczej jasne/ciemne pole, wskaźnik położenia miski obiektywowej umieszczone na przedniej ścianie statywu; c) port do podłączenia kamery z podziałem światła; d) nasadka okularowa z regulacją rozstawu źrenic; e) możliwość montażu w statywie mikroskopu zmieniacza powiększeń o zakresie od 1x - 2x działającego dla wszystkich portów wyjściowych obrazu, oraz funkcją odczytu aktualnego powiększenia za pomocą oprogramowania do analizy obrazu (automatyczna zmiana kalibracji); f) układ oświetlenia do światła odbitego (EPI) o mocy min. 50W z regulowaną i centrowaną przysłona polową oraz centrowaną przysłoną aperturową; g) lampa oświetlacza o mocy min. 50W z wbudowanym kolektorem odbłyśnikiem z tyłu; h) układ oświetlenia do światłą odbitego z fabrycznie wbudowanym nierozbieralnym układem oświetlenia do jasnego i ciemnego pola (2 zwierciadła) i możliwością instalacji dwóch niezależnych źródeł oświetlenia i filtrów fluorescencyjnych; i) przysłona aperturowa samoczynnie otwierana w czasie przełączania w układzie do światła odbitego na technikę ciemne pole; j) w układzie oświetlacza EPI gniazda do montażu układu polaryzatora i analizatora i kompensatorów; k) uniwersalny pryzmat do Nomarskiego dla obiektywów od 5x do 150x i obiektywów serii extra large working distance od 20x do 50x; l) w układzie oświetlacza EPI wbudowany minimum 4 gniazdowy, kołowy zmieniacz filtrów z wbudowanymymi filtrami; minimum 3 typu: NCB11, ND4, ND16; m) miska obiektywowa minimum 5-cio pozycyjna uniwersalna z możliwością instalacji pryzmatu do kontrastu Nomarskiego oraz obiektywów jasnego i ciemnego pola, z systemem kodowania położenia miski i obiektywów i możliwością jej odczytu z poziomu oprogramowania; n) stolik mechaniczny o zakresie ruchu minimum 50x50mm; o) wbudowany w statyw układ zasilania o mocy 50W z płynną regulacją natężenia światła; p) współosiowo ustawiona śruba makro/mikro z układem sprzęgła śruba mikro o dokładności pozycjonowania stołu nie gorszej niż 0.1 mm/obrót; r) Możliwość obserwacji w świetle odbitym w technikach jasne/ciemne pole, polaryzacja, kontrast Nomarskiego; s) układ optyki korygowanej do nieskończoności; t) obiektyw klasy Epi Plan Fluor lub Semi-Plan Apochromat dedykowane do pracy w świetle odbitym w technikach jasne/ciemne pole i kontraście Nomarskiego o parametrach nie gorszych niż: - 5X (NA/WD : 0.15/18.00 mm); - 10X (NA/WD : 0.30/15.00 mm); - 20X (NA/WD : 0.45/4.50 mm); - 50X (NA/WD : 0.80/1.00 mm); - 100X (NA/WD : 0.90/1.00 mm). u) Na panelu frontowym mikroskopu gniazdo do instalacji slotów z wielkością ziarna i podziałką milimetrową. Wymagany osprzęt: A. Kamera cyfrowa z oprogramowaniem o następujących parametrach -matryca o rozdzielczości nie mniejszej niż 1280x1024; -tryb pracy w kolorze; -podłączenie za pomocą złącza USB. B. Oprogramowanie pomiarowe umożliwiające: -wstawianie tekstów i opisów na zdjęcie; -możliwość wykonywania ręcznych pomiarów obiektów obrazu; -wskaźnik pomiaru ostrości; -możliwość wstawiania skali i opisów; -funkcja wykonywania automatycznych i ręcznych pomiarów odcisków twardości i mikrotwardości w skali: Vickers, Brinell, Knoop; -eksport wyników pomiarów do plików WORD i EXCEL; -Zestaw komputerowy do pobierania danych, współpracujący z kamerą i oprogramowaniem* Dodatkowe wymagania: Oferent zapewnia szkolenie uwzględniające zasady użytkowania oraz konserwacji urządzenia. * Należy rozumieć jako zestaw składający się z jednostki centralnej, monitora oraz licencjonowanego oprogramowania systemowego. (dopuszcza się dostawę komputera przenośnego typu notebook). Zestaw musi posiadać możliwość importu oraz exportu danych poprzez wymienne nośniki pamięci typu pamięć flash i/lub kartę sieciową w standardzie 100Base-TX

Numer biuletynu: 1

Pozycja w biuletynie: 230166

Data publikacji: 2010-07-29

Nazwa:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej

Ulica: ul. Wołoska 141

Numer domu: 141

Miejscowość: Warszawa

Kod pocztowy: 02-507

Województwo / kraj: mazowieckie

Numer telefonu: 022 2348729, 2348741

Numer faxu: 022 2348514

Regon: 00000155400000

Typ ogłoszenia: ZP-400

Czy jest obowiązek publikacji w biuletynie: Tak

Ogłoszenie dotyczy: 1

Rodzaj zamawiającego: Uczelnia publiczna

Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego:
Mikroskop metalograficzny w układzie odwróconym z kamerą do rejestracji oraz oprogramowaniem do archiwizacji i analizy obrazu

Rodzaj zamówienia: D

Przedmiot zamówienia:
Mikroskop metalograficzny musi posiadać następujące cechy: a) statyw mikroskopu metalograficznego w układzie odwróconym o konstrukcji odpornej na drgania zapewniający pracę w świetle odbitym, z możliwością podpięcia monitora LCD do bezpośredniego podglądu obrazu z mikroskopu; b) wszystkie pokrętła regulacyjne: przesłona polowa i aperturowa, dźwignia zmiany techniki badawczej jasne/ciemne pole, wskaźnik położenia miski obiektywowej umieszczone na przedniej ścianie statywu; c) port do podłączenia kamery z podziałem światła; d) nasadka okularowa z regulacją rozstawu źrenic; e) możliwość montażu w statywie mikroskopu zmieniacza powiększeń o zakresie od 1x - 2x działającego dla wszystkich portów wyjściowych obrazu, oraz funkcją odczytu aktualnego powiększenia za pomocą oprogramowania do analizy obrazu (automatyczna zmiana kalibracji); f) układ oświetlenia do światła odbitego (EPI) o mocy min. 50W z regulowaną i centrowaną przysłona polową oraz centrowaną przysłoną aperturową; g) lampa oświetlacza o mocy min. 50W z wbudowanym kolektorem odbłyśnikiem z tyłu; h) układ oświetlenia do światłą odbitego z fabrycznie wbudowanym nierozbieralnym układem oświetlenia do jasnego i ciemnego pola (2 zwierciadła) i możliwością instalacji dwóch niezależnych źródeł oświetlenia i filtrów fluorescencyjnych; i) przysłona aperturowa samoczynnie otwierana w czasie przełączania w układzie do światła odbitego na technikę ciemne pole; j) w układzie oświetlacza EPI gniazda do montażu układu polaryzatora i analizatora i kompensatorów; k) uniwersalny pryzmat do Nomarskiego dla obiektywów od 5x do 150x i obiektywów serii extra large working distance od 20x do 50x; l) w układzie oświetlacza EPI wbudowany minimum 4 gniazdowy, kołowy zmieniacz filtrów z wbudowanymymi filtrami; minimum 3 typu: NCB11, ND4, ND16; m) miska obiektywowa minimum 5-cio pozycyjna uniwersalna z możliwością instalacji pryzmatu do kontrastu Nomarskiego oraz obiektywów jasnego i ciemnego pola, z systemem kodowania położenia miski i obiektywów i możliwością jej odczytu z poziomu oprogramowania; n) stolik mechaniczny o zakresie ruchu minimum 50x50mm; o) wbudowany w statyw układ zasilania o mocy 50W z płynną regulacją natężenia światła; p) współosiowo ustawiona śruba makro/mikro z układem sprzęgła śruba mikro o dokładności pozycjonowania stołu nie gorszej niż 0.1 mm/obrót; r) Możliwość obserwacji w świetle odbitym w technikach jasne/ciemne pole, polaryzacja, kontrast Nomarskiego; s) układ optyki korygowanej do nieskończoności; t) obiektyw klasy Epi Plan Fluor lub Semi-Plan Apochromat dedykowane do pracy w świetle odbitym w technikach jasne/ciemne pole i kontraście Nomarskiego o parametrach nie gorszych niż: - 5X (NA/WD : 0.15/18.00 mm); - 10X (NA/WD : 0.30/15.00 mm); - 20X (NA/WD : 0.45/4.50 mm); - 50X (NA/WD : 0.80/1.00 mm); - 100X (NA/WD : 0.90/1.00 mm). u) Na panelu frontowym mikroskopu gniazdo do instalacji slotów z wielkością ziarna i podziałką milimetrową. Wymagany osprzęt: A. Kamera cyfrowa z oprogramowaniem o następujących parametrach -matryca o rozdzielczości nie mniejszej niż 1280x1024; -tryb pracy w kolorze; -podłączenie za pomocą złącza USB. B. Oprogramowanie pomiarowe umożliwiające: -wstawianie tekstów i opisów na zdjęcie; -możliwość wykonywania ręcznych pomiarów obiektów obrazu; -wskaźnik pomiaru ostrości; -możliwość wstawiania skali i opisów; -funkcja wykonywania automatycznych i ręcznych pomiarów odcisków twardości i mikrotwardości w skali: Vickers, Brinell, Knoop; -eksport wyników pomiarów do plików WORD i EXCEL; -Zestaw komputerowy do pobierania danych, współpracujący z kamerą i oprogramowaniem* Dodatkowe wymagania: Oferent zapewnia szkolenie uwzględniające zasady użytkowania oraz konserwacji urządzenia. * Należy rozumieć jako zestaw składający się z jednostki centralnej, monitora oraz licencjonowanego oprogramowania systemowego. (dopuszcza się dostawę komputera przenośnego typu notebook). Zestaw musi posiadać możliwość importu oraz exportu danych poprzez wymienne nośniki pamięci typu pamięć flash i/lub kartę sieciową w standardzie 100Base-TX

Kody CPV:
386340008 (Mikroskopy optyczne)

Czy zamówienie jest podzielone na części: Nie

Czy dopuszcza się złożenie oferty wariantowej: Nie

Czy przewiduje się udzielenie zamówień uzupełniających: Nie

Czas: D

Data zakończenia: 30/10/2010

Informacja na temat wadium: nie dotyczy

Zaliczka: Nie

Uprawnienia:
Ocena spełnia/nie spełnia dokonywana na podstawie przedstawienia stosownych dokumentów określonych w SIWZ

Wiedza i doświadczenie:
Ocena spełnia/nie spełnia dokonywana na podstawie przedstawienia stosownych dokumentów określonych w SIWZ

Potencjał techniczny:
Ocena spełnia/nie spełnia dokonywana na podstawie przedstawienia stosownych dokumentów określonych w SIWZ

Osoby zdolne do zrealizowania zamówienia: nie dotyczy

Sytuacja ekonomiczna:
Ocena spełnia/nie spełnia dokonywana na podstawie przedstawienia stosownych dokumentów określonych w SIWZ

Oświadczenie nr 3: Tak

Oświadczenie nr 10: Tak

Oświadczenie wykluczenia nr 1: Tak

Oświadczenie wykluczenia nr 2: Tak

Oświadczenie wykluczenia nr 3: Tak

Oświadczenie wykluczenia nr 4: Tak

Oświadczenie wykluczenia nr 7: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

III.7 osoby niepełnosprawne: Nie

Kod trybu postepowania: PN

Czy zmiana umowy: Nie

Kod kryterium cenowe: B

Znaczenie kryterium 1: 60

Nazwa kryterium 2: Parametry techniczne

Znaczenie kryterium 2: 20

Nazwa kryterium 3: Gwarancja i serwis

Znaczenie kryterium 3: 20

Czy wykorzystywana będzie aukcja: Nie

Adres uzyskania specyfikacji i warunków zamówienia:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej, Wołoska 141, 02-507 Warszawa, (pokój 206)

Data składania wniosków, ofert: 10/08/2010

Godzina składania wniosków, ofert: 12:00

Miejsce składania:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej, Wołoska 141, 02-507 Warszawa, (pokój 206)

On: D

Termin związania ofertą, data do: 09/09/2010

Czy unieważnienie postępowania: Nie

Podobne przetargi