163368 / 2011-06-17 - Uczelnia publiczna / Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej (Warszawa)

Zgodny z tonerem CF230X (HP 30X) Czarny Wydajny marki FullPrint

Cena: 79.95 PLN

Ogłoszenie zawiera informacje aktualizacyjne dotyczące publikacji w biuletynie 1 z dnia 2011-05-17 pod pozycją 116950. Zobacz ogłoszenie 116950 / 2011-05-17 - Uczelnia publiczna.

Numer biuletynu: 1

Pozycja w biuletynie: 163368

Data publikacji: 2011-06-17

Nazwa:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej

Ulica: ul. Wołoska 141

Numer domu: 141

Miejscowość: Warszawa

Kod pocztowy: 02-507

Województwo / kraj: mazowieckie

Numer telefonu: 022 2348729, 2348741

Numer faxu: 022 2348514

Regon: 00000155400000

Typ ogłoszenia: ZP-403

Numer biuletynu: 1

Numer pozycji: 116950

Data wydania biuletynu: 2011-05-17

Czy jest obowiązek publikacji w biuletynie: Tak

Czy zamówienie było ogłoszone w BZP: Tak

Rok ogłoszenia: 2011

Pozycja ogłoszenia: 116950

Czy w BZP zostało zamieszczone ogłoszenie o zmianie: Nie

Ogłoszenie dotyczy: 1

Rodzaj zamawiającego: Uczelnia publiczna

Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego: Sonda Langmuira

Rodzaj zamówienia: D

Przedmiot zamówienia:
Przedmiotem zamówienia jest sonda Langmuira - fabrycznie nowe urządzenie do diagnostyki plazmy niskotemperaturowej. Urządzenie umożliwiać powinno wyznaczenie następujących wielkości fizycznych: gęstości jonów i elektronów , temperatura elektronów, EEDF (rozkład gęstości energii elektronów), potencjał plazmy, potencjał pływający, długość ekranowania Debye a, opisujących stan plazmy generowanej pod obniżonym ciśnieniem w warunkach: 1. wzbudzania plazmy w urządzeniu do wytwarzania warstw metodą pulsującego rozpylania magnetronowego (PMS - Pulse Magnetron Sputtering) przy zasilaniu magnetronu - źródła plazmy w metodzie PMS napięciem o częstotliwości do 100 kHz modulowanym częstotliwością do 2 kHz, 2. wzbudzania plazmy w urządzeniu do wytwarzania warstw metodą IPD (Impulse Plasma Deposition), w której plazma powstaje w sposób cyklicznie powtarzający się w częstotliwością rzędu 10 Hz w koaksjalnym akceleratorze plazmy pod wpływem rozładowania baterii kondensatorów następującego każdorazowo w okresie czasu rzędu 10-4 s. W odniesieniu do cech pomiarowych sondy i systemu kontroli urządzenie powinno: a) zapewniać pomiar wymienionych wyżej parametrów plazmy w zakresie napięć od -200 V do + 100 V i prądu od 20 mikroamperów do 1 A z szybkością skanowania nie mniejszą niż 15 scan/s w warunkach wyzwalania poziomem lub zboczem sygnału wyzwalającego (narastającego, malejącego) z rozdzielczością czasową nie mniejsza niż 60 ns oraz pasmem częstotliwości sygnału do 3 MHz a także możliwością wyboru opóźnienia rozpoczęcia pomiaru względem sygnału wyzwalania, b) zapewniać późniejszą rozbudowę o możliwość wyboru trybu pracy urządzenia: akwizycja i obróbka danych podczas skanowania w całym zakresie napięć lub akwizycja i obróbka danych dla wybranej wartości napięcia z podanego wyżej zakresu, c) zapewniać całkowicie zautomatyzowaną akwizycję danych z szybkością nie mniejszą niż 62000 points/s w pasmie nie gorszym niż 1 MHz, d) zapewniać możliwość automatycznego, sterowanego przemieszczania sondy wzdłuż osi z na odległość nie mniejszą niż 250 mm, e) zapewniać pełną kontrolę (systemu akwizycji i obróbki danych, wyznaczania wielkości fizycznych opisujących stan plazmy, systemu przemieszczania sondy wzdłuż osi z) z poziomu komputera PC przy wykorzystaniu integralnego oprogramowania kompatybilnego z systemem Windows, f) zapewniać taką konstrukcję urządzenia, aby umożliwić jego dołączenia do komory próżniowej przy wykorzystaniu próżnioszczelnego systemu mocowania, g) posiadać elektrodę kompensacji sygnału RF, aby w znaczący sposób skompensować sygnał RF w przestrajanych obwodach o wysokiej impedancji, h) posiadać sondę odniesienia dla kompensacji niskoczęstotliwościowych fluktuacji powodujących dryfowanie potencjału plazmy w reaktorach z niezbyt dobrze zdefiniowanym potencjałem ziemi i możliwymi niestabilnościami zasilania, i) urządzenie powinno posiadać minimum jedno wejście sygnału RS485.

Kody CPV:
385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)

Kod trybu postepowania: PN

Czy zamówienie dotyczy programu UE: Nie

Nazwa wykonawcy: HIDEN ANALYTICAL Ltd.

Adres pocztowy wykonawcy: 420 EUROPA BOULEVARD

Miejscowość: WARRINGTON WA 5 7UN

ID województwa: 47

Województwo / kraj: Zjednoczone Królestwo

Data udzielenie zamówienia: 16/06/2011

Liczba ofert: 1

Liczba odrzuconych ofert: 0

Szacunkowa wartość zamówienia: 97560,00

Cena wybranej oferty: 97560,00

Cena minimalna: 97560,00

Cena maksymalna: 97560,00

Kod waluty: 1

Waluta (PLN): PLN

Podobne przetargi