Informacje o przetargach publicznych.
Site Search

278346 / 2009-08-13 - Uczelnia publiczna / Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej (Warszawa)

Mobilne urządzenie do generowania pola magnetycznego o minimalnym natężeniu 0.3T

Opis zamówienia

Przedmiotem zamówienia jest dostawa na Wydział Inżynierii Materiałowej Politechniki Warszawskiej fabrycznie nowego mobilnego urządzenia do generowania pola magnetycznego o minimalnym natężeniu 0.3T. Wykaz elementów składowych wchodzących w skład zamówienia:
1. Układ Cewki (UC),
2. Układ Zasilacza (UZ),
3. Układ Chłodzący (UCh),
4. Wyposażenie Uzupełniające (WU).

SPECYFIKACJA WYMAGAŃ NIEZBĘDNYCH DLA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

Układ Cewki (UC):
1. Układ cewki musi składać się z:
z dwóch identycznych cewek elektromagnetycznych o kształcie pierścieni i wymiarach kanału roboczego cewki:
-średnica minimum 150 mm,
-wysokość minimum 100 mm,
-średnica zewnętrzna maksimum 400 mm.
dwóch pierścieni dystansowych o wymiarach:
-średnica wewnętrzna jak średnica kanału roboczego cewki,
-wysokość minimum 75 mm,
-średnica zewnętrzna jak średnica zewnętrzna cewek.
2. Żaden z elementów układu cewki (cewka elektromagnetyczna, pierścień dystansowy) nie może mieć większej masy niż 50 kg każdy z nich.
3. Pierścienie dystansowe i obudowy cewek elektromagnetycznych (powierzchnie podstaw oraz zewnętrzna powierzchnia boczna) muszą być wykonane z tego samego materiału ferromagnetycznego miękkiego.
4. Obudowa cewki elektromagnetycznej:
-wytycza kanał roboczy cewki,
-jest elementem konstrukcyjnym zapewniającym utrzymanie wymiarów kanału roboczego cewki w trakcie jej pracy,
-prowadzi minimum 95% wartości strumienia pola magnetycznego wytwarzanego w kanale roboczym cewki,
-pozwala na ustawienie pojedynczej cewki elektromagnetycznej jak i całego Układu Cewki (UC) na podłożu poziomym;
5. Jeden z pierścieni musi być pocięty na 8 identycznych elementów. wzdłuż średnic pierścienia.

Układ Chłodzący (UCh)
1. Zadaniem Układu Chłodzącego (UCh) jest:
-chłodzenie Układu Cewki (UC) gdy podłączona jest jedna cewka lub obie cewki,
-chłodzenie Układu Zasilacza (UZ).
2. W efekcie działania układu chłodzącego Układ Cewki (UC) w całej objętości kanału roboczego cewki, w trakcie generowania największego pola magnetycznego, przez nie mniej niż 30 minut, temperatura nie może przekroczyć 300C. Efekt ten musi być osiągnięty w przypadku pracy jednej cewki elektromagnetycznej jak i dwóch cewek jednocześnie.
3. Układ Chłodzący (UCh) ma zapewnić by przerwa pomiędzy kolejnymi 30-to minutowymi cyklami pracy urządzenia nie była większa niż 5 minut.
4. Należy zapewnić możliwość pełnego opróżnienia cewek elektromagnetycznych z czynnika chłodzącego oraz szczelnego zamknięcia czynnika chłodzącego w pozostałych elementach układu rozmontowanego do transportu.
5. Przewody Układu Chłodzącego (UCh) łączące układy chłodzące z układami chłodzonymi muszą mieć długość minimum 5 m każdy.

Układ Zasilacza (UZ)
1. Układ zasilacza musi zapewnić zasilanie:
-Układu Cewki (UC) gdy podłączona jest jedna cewka lub dwie cewki,
-Układu Chłodzenia (UCh) gdy podłączona jest jedna cewka lub dwie cewki.
2. Każdy z w/w układów musi posiadać:
-oddzielny wyłącznik,
-oddzielny odpowiedni bezpiecznik,
-sygnalizację wizualną awarii.
3. Łączna masa elementów wchodzących w skład Układu Zasilacza (UZ) nie może być większa niż 30 kg.
4. Maksymalny pobór mocy przez dwie jednocześnie pracujące cewki elektomagnetyczne nie może być większy niż 8,5 kW.
5. Układ zasilacza ma przemieniać prąd przemienny na prąd stały zasilający uzwojenie cewki.
6. Układ zasilacza Układu Cewki (UC) musi pozwalać na zasilanie jednoczenie obu cewek elektromagnetycznych lub tylko jednej z nich.
7. Zasilacz Układu Cewki (UC) musi zapewnić:
-płynną regulacją prądu w całym zakresie zmian z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości maksymalnej,
-pomiar prądu z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości maksymalnej,
-stałą wartość napięcia,
-pomiar napięcia z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości nominalnej.
8. długość kabli przyłączających zasilacze do sieci energoelektrycznej musi wynosić minimum 3 m,
9. długość kabli łączących zasilacze z elementami urządzenia musi wynosić minimum 3 m.

Wyposażenie Uzupełniające (WU)

Przez Wyposażenie Uzupełniające (WU) rozumie się elementy urządzenia, które nie są połączone trwale z Układem Cewki (UC), Układem Zasilacza (UZ), Układem Chłodzącym (UCh).

W skład Wyposażenia Uzupełniającego (WU) wchodzą wymienne rdzenie cewek elektromagnetycznych pasowane ruchowo do średnicy kanału cewki wykonane z tego samego materiału ferromagnetycznego miękkiego co obudowa cewek elektromagnetycznych.

Rdzenie krótsze (4 sztuki) muszą mieć długość równą grubości obudowy cewki elektromagnetycznej.
Rdzenie dłuższe (2 sztuki) muszą mieć długość równą wysokości kanału cewki elektromagnetycznej.
Ich konstrukcja musi zapewnić:
-stałe położenie w trakcie pracy urządzenia,
-możliwość dostępu do kanału cewki po wyłączeniu urządzenia.

Łączna masa elementów wchodzących w skład Wyposażenia Uzupełniającego (WU) nie może być większa niż 50 kg.

Numer biuletynu: 1

Pozycja w biuletynie: 278346

Data publikacji: 2009-08-13

Nazwa:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej

Ulica: ul. Wołoska 141

Numer domu: 141

Miejscowość: Warszawa

Kod pocztowy: 02-507

Województwo / kraj: mazowieckie

Numer telefonu: 022 2348729, 2348741

Numer faxu: 022 2348514

Regon: 00000155400000

Typ ogłoszenia: ZP-400

Czy jest obowiązek publikacji w biuletynie: Tak

Ogłoszenie dotyczy: 1

Rodzaj zamawiającego: Uczelnia publiczna

Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego:
Mobilne urządzenie do generowania pola magnetycznego o minimalnym natężeniu 0.3T

Rodzaj zamówienia: D

Przedmiot zamówienia:
Przedmiotem zamówienia jest dostawa na Wydział Inżynierii Materiałowej Politechniki Warszawskiej fabrycznie nowego mobilnego urządzenia do generowania pola magnetycznego o minimalnym natężeniu 0.3T. Wykaz elementów składowych wchodzących w skład zamówienia:
1. Układ Cewki (UC),
2. Układ Zasilacza (UZ),
3. Układ Chłodzący (UCh),
4. Wyposażenie Uzupełniające (WU).

SPECYFIKACJA WYMAGAŃ NIEZBĘDNYCH DLA PRZEDMIOTU ZAMÓWIENIA

Układ Cewki (UC):
1. Układ cewki musi składać się z:
z dwóch identycznych cewek elektromagnetycznych o kształcie pierścieni i wymiarach kanału roboczego cewki:
-średnica minimum 150 mm,
-wysokość minimum 100 mm,
-średnica zewnętrzna maksimum 400 mm.
dwóch pierścieni dystansowych o wymiarach:
-średnica wewnętrzna jak średnica kanału roboczego cewki,
-wysokość minimum 75 mm,
-średnica zewnętrzna jak średnica zewnętrzna cewek.
2. Żaden z elementów układu cewki (cewka elektromagnetyczna, pierścień dystansowy) nie może mieć większej masy niż 50 kg każdy z nich.
3. Pierścienie dystansowe i obudowy cewek elektromagnetycznych (powierzchnie podstaw oraz zewnętrzna powierzchnia boczna) muszą być wykonane z tego samego materiału ferromagnetycznego miękkiego.
4. Obudowa cewki elektromagnetycznej:
-wytycza kanał roboczy cewki,
-jest elementem konstrukcyjnym zapewniającym utrzymanie wymiarów kanału roboczego cewki w trakcie jej pracy,
-prowadzi minimum 95% wartości strumienia pola magnetycznego wytwarzanego w kanale roboczym cewki,
-pozwala na ustawienie pojedynczej cewki elektromagnetycznej jak i całego Układu Cewki (UC) na podłożu poziomym;
5. Jeden z pierścieni musi być pocięty na 8 identycznych elementów. wzdłuż średnic pierścienia.

Układ Chłodzący (UCh)
1. Zadaniem Układu Chłodzącego (UCh) jest:
-chłodzenie Układu Cewki (UC) gdy podłączona jest jedna cewka lub obie cewki,
-chłodzenie Układu Zasilacza (UZ).
2. W efekcie działania układu chłodzącego Układ Cewki (UC) w całej objętości kanału roboczego cewki, w trakcie generowania największego pola magnetycznego, przez nie mniej niż 30 minut, temperatura nie może przekroczyć 300C. Efekt ten musi być osiągnięty w przypadku pracy jednej cewki elektromagnetycznej jak i dwóch cewek jednocześnie.
3. Układ Chłodzący (UCh) ma zapewnić by przerwa pomiędzy kolejnymi 30-to minutowymi cyklami pracy urządzenia nie była większa niż 5 minut.
4. Należy zapewnić możliwość pełnego opróżnienia cewek elektromagnetycznych z czynnika chłodzącego oraz szczelnego zamknięcia czynnika chłodzącego w pozostałych elementach układu rozmontowanego do transportu.
5. Przewody Układu Chłodzącego (UCh) łączące układy chłodzące z układami chłodzonymi muszą mieć długość minimum 5 m każdy.

Układ Zasilacza (UZ)
1. Układ zasilacza musi zapewnić zasilanie:
-Układu Cewki (UC) gdy podłączona jest jedna cewka lub dwie cewki,
-Układu Chłodzenia (UCh) gdy podłączona jest jedna cewka lub dwie cewki.
2. Każdy z w/w układów musi posiadać:
-oddzielny wyłącznik,
-oddzielny odpowiedni bezpiecznik,
-sygnalizację wizualną awarii.
3. Łączna masa elementów wchodzących w skład Układu Zasilacza (UZ) nie może być większa niż 30 kg.
4. Maksymalny pobór mocy przez dwie jednocześnie pracujące cewki elektomagnetyczne nie może być większy niż 8,5 kW.
5. Układ zasilacza ma przemieniać prąd przemienny na prąd stały zasilający uzwojenie cewki.
6. Układ zasilacza Układu Cewki (UC) musi pozwalać na zasilanie jednoczenie obu cewek elektromagnetycznych lub tylko jednej z nich.
7. Zasilacz Układu Cewki (UC) musi zapewnić:
-płynną regulacją prądu w całym zakresie zmian z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości maksymalnej,
-pomiar prądu z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości maksymalnej,
-stałą wartość napięcia,
-pomiar napięcia z czułością nie gorszą niż 0,1 wartości nominalnej.
8. długość kabli przyłączających zasilacze do sieci energoelektrycznej musi wynosić minimum 3 m,
9. długość kabli łączących zasilacze z elementami urządzenia musi wynosić minimum 3 m.

Wyposażenie Uzupełniające (WU)

Przez Wyposażenie Uzupełniające (WU) rozumie się elementy urządzenia, które nie są połączone trwale z Układem Cewki (UC), Układem Zasilacza (UZ), Układem Chłodzącym (UCh).

W skład Wyposażenia Uzupełniającego (WU) wchodzą wymienne rdzenie cewek elektromagnetycznych pasowane ruchowo do średnicy kanału cewki wykonane z tego samego materiału ferromagnetycznego miękkiego co obudowa cewek elektromagnetycznych.

Rdzenie krótsze (4 sztuki) muszą mieć długość równą grubości obudowy cewki elektromagnetycznej.
Rdzenie dłuższe (2 sztuki) muszą mieć długość równą wysokości kanału cewki elektromagnetycznej.
Ich konstrukcja musi zapewnić:
-stałe położenie w trakcie pracy urządzenia,
-możliwość dostępu do kanału cewki po wyłączeniu urządzenia.

Łączna masa elementów wchodzących w skład Wyposażenia Uzupełniającego (WU) nie może być większa niż 50 kg.

Kody CPV:
385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)

Czy zamówienie jest podzielone na części: Nie

Czy dopuszcza się złożenie oferty wariantowej: Nie

Czy przewiduje się udzielenie zamówień uzupełniających: Nie

Czas: D

Data zakończenia: 15/12/2009

opis_war:
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy spełniają warunki określone w art 22 ust 1 ustawy Prawo Zamówień Publicznych, oraz nie podlegają wykluczeniu z postępowania na podstawie art 24 ust 1 i 2 ustawy pzp. Ocena spełniania w/w warunków dokonana zostanie zgodnie z formułą: spełnia-nie spełnia, w oparciu o informacje zawarte w dokumentach i oświadczeniach stanowiących ofertę, zgodnie z SIWZ

inf_osw:
W celu potwierdzenia, że wykonawca posiada uprawnienie do wykonywania określonej działalności lub czynności oraz nie podlega wykluczeniu na podstawie art. 24 ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. - Prawo zamówień publicznych z udziału w postępowaniu o zamówienie publiczne wykonawca składa następujące oświadczenia i dokumenty: 1. Dokumenty wymagane: - formularz ofertowy z wykorzystaniem wzoru- załącznik nr 1 - aktualny odpis z właściwego rejestru albo aktualne zaświadczenie o wpisie do ewidencji działalności gospodarczej, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru lub zgłoszenia do ewidencji działalności gospodarczej, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert - dokumenty potwierdzające posiadanie uprawnień/pełnomocnictw osób podpisujących ofertę, o ile fakt nie wynika z przedstawionych dokumentów rejestrowych, - koncesja, zezwolenie lub licencja, jeżeli ustawy nakładają obowiązek posiadania koncesji, zezwolenia lub licencji na podjęcie działalności gospodarczej w zakresie objętym zamówieniem publicznym zwanym dalej ZAMÓWIENIEM, - aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego oraz właściwego oddziału Zakładu Ubezpieczeń Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia Społecznego potwierdzające odpowiednio, że wykonawca nie zalega z opłacaniem podatków, opłat oraz składek na ubezpieczenie zdrowotne lub społeczne, lub zaświadczenia, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu - wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert. W celu potwierdzenia, że wykonawca posiada niezbędną wiedzę i doświadczenie oraz dysponuje potencjałem technicznym i osobami zdolnymi do wykonania zamówienia w postępowaniu o zamówienie publiczne składa następujące dokumenty: -Wykaz wykonanych w okresie ostatnich trzech lat dostaw lub usług, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy - w tym okresie, z podaniem ich wartości, przedmiotu, dat wykonania i odbiorców- załącznik numer: 2. W celu potwierdzenia, że wykonawca znajduje się w sytuacji ekonomicznej i finansowej zapewniającej wykonanie zamówienia w postępowaniu o zamówienie publiczne składa następujące dokumenty: -Polisę lub inny dokument ubezpieczenia potwierdzający, że wykonawca jest ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności gospodarczej

Kod trybu postepowania: PN

Kod kryterium cenowe: A

Czy wykorzystywana będzie aukcja: Nie

Adres uzyskania specyfikacji i warunków zamówienia:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej, Wołoska 141, 02-507 Warszawa, (pokój 206)

Data składania wniosków, ofert: 31/08/2009

Godzina składania wniosków, ofert: 11:30

Miejsce składania:
Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej, Wołoska 141, 02-507 Warszawa, (pokój 206)

On: D

Termin związania ofertą, data do: 30/09/2009

Podobne przetargi

48303 / 2012-02-29 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa

Instytut Transportu Samochodowego - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Postępowanie o udzielenie zamówienia publicznego na sprzedaż, dostawę i montaż analizatora wydzielanych gazów QMS, w celu rozbudowy istniejącego analizatora termicznego NETZSCH STA 449 F3 Jupiter.

46069 / 2011-02-09 - Uczelnia publiczna

Akademia Wychowania Fizycznego Józefa Piłsudskiego - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa Wiedeńskiego Systemu Testów wraz z montażem sprzętu, uruchomieniem i przeszkoleniem pracowników w zakresie jego obsługi.

173244 / 2010-06-18 - Uczelnia publiczna

Akademia Wychowania Fizycznego Józefa Piłsudskiego - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa systemu oceny i treningu koordynacji i siły mięśniowej w warunkach funkcjonalnych, wraz z montażem sprzętu, uruchomieniem i przeszkoleniem pracowników w zakresie jego obsługi.

77863 / 2014-04-09 - Uczelnia publiczna

Wydział Mechaniczny Energetyki i Lotnictwa Politechniki Warszawskiej - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Przeniesienie tunelu transonicznego i modernizacja przestrzeni pomiarowej w związku z realizacją projektu Modernizacja i budowa nowej infrastruktury naukowo badawczej Wojskowej Akademii Technicznej i Politechniki Warszawskiej na potrzeby wspólnych numeryczno-doświadczalnych badań lotniczych silników turbinowych Nr POIG.02.02.00-14-022/09 dla Instytutu Techniki Lotniczej i Mechaniki Stosowanej Wydziału Mechanicznego Energetyki i Lotnictwa Politechniki Warszawskiej

76977 / 2016-06-09 - Uczelnia publiczna

Politechnika Warszawska Filia w PÅ‚ocku - PÅ‚ock (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest: Dostawa suszarki obrotowej dla Instytutu Chemii oraz osprzętu do badania norm na stanowiskach dla Instytutu Budownictwa Politechniki Warszawskiej Filii w Płocku

165394 / 2009-05-25 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa

Instytut Techniczny Wojsk Lotniczych - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa do siedziby Zamawiającego fabrycznie nowych, nieużywanych: a) automatycznego licznika cząstek, b) spektrometru fluorescencji rentgenowskiej XFR - spektrometru rentgenowskiego z dyspersją energii EDXRF.

89201 / 2015-06-17 - Uczelnia publiczna

Wydział Mechaniczny Energetyki i Lotnictwa Politechniki Warszawskiej - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
dostawę i montaż aparatury laboratorium badawczego w ramach podzadania Koszt utworzenia laboratorium dynamiki transportu i skraplania aerozoli w obudowie bezpieczeństwa elektrowni jądrowej w warunkach ciężkich awarii w ramach projektu PWP. Utworzenie i realizacja interdyscyplinarnych, anglojęzycznych, międzynarodowych, stacjonarnych studiów doktoranckich Innovative Nuclear and Sustainable Power Engineering współfinansowanego ze środków Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego POKL 04.01.01-00-038/13

95694 / 2014-03-21 - Inny: Instytut Badawczy

Wojskowy Instytut Techniczny Uzbrojenia - Zielonka (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
PRZEDMIOT ZAMÓWIENIA NA: OPRZYRZĄDOWANIE DO POMIARU PRĘDKOŚCI OSTRZA PODCZAS BADAŃ NOŻOODPORNOŚCI WRAZ Z UKOMPLETOWANIEM

36084 / 2014-01-31 - Uczelnia publiczna

Politechnika Warszawska Wydział Samochodów i Maszyn Roboczych - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa trzech układów do pomiaru momentu obrotowego oraz prędkości obrotowej z ciągłą rejestracją parametrów pracy.

166858 / 2015-07-06 - Inny: Państwowy Instytut Badawczy

Centrum Naukowo-Badawcze Ochrony Przeciwpożarowej - Józefów k/Otwocka (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Zakup aparatury kontrolno-pomiarowej do pomiaru progu zadziałania czujek dymu, czujek ciepła oraz czujek wielodetektorowych

180908 / 2010-06-24 - Uczelnia publiczna

Akademia Wychowania Fizycznego Józefa Piłsudskiego - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa ergometru wózkowego wraz z montażem sprzętu, uruchomieniem i przeszkoleniem pracowników w zakresie jego obsługi.

315678 / 2013-08-06 - Uczelnia publiczna

Politechnika Warszawska Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa przenośnego analizatora obwodów do 18 GHz z funkcją analizatora widma i zestawem akcesoriów. Postępowanie WEiTI/85/BZP/2013/1033

96023 / 2011-03-25 - Uczelnia publiczna

Politechnika Radomska im. K. Pułaskiego - Radom (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa aparatu do automatycznego oznaczania azotu składającego się z analizatora i mineralizatora wraz z dowozem, uruchomieniem oraz przeszkoleniem trzech pracowników Politechniki Radomskiej.

156530 / 2015-06-26 - Inny: Instytut naukowy

Państwowy Instytut Geologiczny - Państwowy Instytut Badawczy - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa sejsmicznego dylatometru płaskiego typu Marchettiego z pełnym wyposażeniem i oprogramowaniem.

321122 / 2010-10-06 - Podmiot prawa publicznego

Instytut Technologii Elektronowej - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa dwukanałowych źródeł wymuszająco - pomiarowych do pomiaru statycznych charakterystyk prądowo- napięciowych przyrządów elektronicznych

32889 / 2013-03-04 - Inny: Instytut badawczy

Instytut Transportu Samochodowego - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Rozbudowa istniejącego analizatora termicznego NETZSCH STA 449 F3 Jupiter o moduł termograwimetryczny umożliwiający wykonywanie pomiarów w atmosferze pary wodnej.

300434 / 2011-09-22 - Uczelnia publiczna

Politechnika Radomska im. K. Pułaskiego - Radom (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa sprzętu do LABORATORIUM TECHNOLOGII WYTWARZANIA PRODUKTÓW CHEMII PRZEMYSŁOWEJ w tym: PAKIET I - Przyrząd do badania właściwości użytkowych produktów chemii przemysłowej, PAKIET II - Aparat do pomiaru napięcia powierzchniowego i kąta zwilżania metodą analizy kształtu kropli ze specjalistycznym stołem przystosowanym do wymagań urządzenia wraz z dowozem uruchomieniem oraz przeszkolenie pracowników PR

303046 / 2009-09-02 - Uczelnia publiczna

Politechnika Warszawska Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Aparatura do Laboratorium Projektowania i Zastosowań Mikroelektronicznych Systemów Scalonych w Zakładzie Metod Projektowania w Mikroelektronice IMiO

41453 / 2009-02-24 - Inny: Instytut Badawczy

Instytut Badawczy Dróg i Mostów - Warszawa (mazowieckie)
CPV: 385400002 (Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa)
Dostawa automatycznego ubijaka Proctora wraz z niezbędnym oprzyrządowaniem i montażem