355155 / 2008-12-08 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa / Instytut Obróbki Plastycznej (Poznań)
Stanowisko do pomiaru chropowatości i konturu
Opis zamówienia
Stanowisko do pomiaru chropowatości i konturu
1. Pomiar chropowatości:
1.1. Opis stanowiska:
-minimalna długość pomiarowa X: co najmniej 60mm
-prostoliniowość X: co najmniej 0,2 µm na dł. 60 mm
-próbkowanie w osi X: co najmniej 100 punktów na mikrometr
-możliwość pomiaru przy dowolnie podawanych prędkościach przesuwu w zakresie 0,01 - 3 mm/s
-kolumna pomiarowa: o wysokości co najmniej 800 mm, zmotoryzowana
-granitowa płyta pomiarowa o wymiarach minimum 600x500 mm z rowkiem teowym
-maksymalny zakres fizyczny głowicy do pomiaru chropowatości Z: nie mniej niż 1200 µm
-minimalna rozdzielczość Z głowicy do pomiaru chropowatości: nie więcej niż 3 nm
-promień końcówki pomiarowej: nie większy od 5 µm
-możliwość pomiaru przy głowicy obróconej o 90 stopni wokół osi pionowej
-możliwość obrotu głowicy pomiarowej na kolumnie co najmniej +/- 45 stopni
-elektronika oparta o komputer PC z monitorem TFT i drukarką oraz standardowymi akcesoriami
1.2. Oprogramowanie sterujące i obliczające pracujące w języku polskim, w środowisku Windows i umożliwiające:
-wykonanie profilu i analizę parametrów chropowatości R, falistości W i profilu niefiltrowanego P
-wykonanie profilu i analizę parametrów falistości dominującej pierwszej WD1 i drugiej WD2 oraz udziału materiałowego Rk
-tworzenie programów pomiarowych
-pomiar wszystkich standardowo używanych parametrów i funkcji opisu nierówności powierzchni
-powiększanie dowolnego wycinka profilu
-tworzenie indywidualnych interfejsów użytkowników
-wycinanie profilu
-analizę Fouriera
-pomiar odcinka pomiarowego o dowolnie wybranej długości w zakresie pomiarowym
-analizę i wyznaczenie wybranych parametrów zarówno dla pełnego zarejestrowanego odcinka, jak również dla wybranej części zmierzonego profilu
-wykorzystanie wszystkich powszechnie stosowanych filtrów stosowanych w pomiarach chropowatości
-wprowadzenie tolerancji analizowanych parametrów
-wyznaczenie krzywej udziału materiałowego
-wyznaczenie krzywej rozkładu amplitudowego
2. Pomiar konturu
2.1. Opis stanowiska:
-minimalna długość pomiarowa X: co najmniej 60 mm
-prostoliniowość X: co najmniej 0,2 µm na dł. 60 mm
-próbkowanie w osi X: co najmniej 100 punktów na mikrometr
-możliwość pomiaru przy dowolnie podawanych prędkościach przesuwu w zakresie 0,01 - 3 mm/s
-maksymalny zakres fizyczny głowicy do pomiaru konturu Z: nie mniej niż 1200 µm
-możliwość podłączenia do oferowanej jednostki posuwowej głowicy o zakresie co najmniej 60 mm przy minimalnej rozdzielczości Z nie więcej niż 50 nm w całym zakresie pomiarowym,
-możliwość dodatkowego pomiaru mikrokonturu głowicą standardowo wykorzystywaną do pomiaru chropowatości
2.2. Oprogramowanie sterujące i obliczające pracujące w języku polskim, w środowisku Windows i umożliwiające:
-obliczanie cech geometrycznych: długości, promienie, kąty, itp.
-tworzenie układu referencyjnego
-tworzenie elementów wynikowych z cech geometrycznych (punktu przecięcia, linie teoretyczne, itp.)
-importu profili nominalnych z plików typu CAD i porównania profilu zmierzonego z nominalnym
-przeprowadzenie przez operatora kalibracji (zmiany współczynników)
-tworzenia własnych programów pomiarowych
-obliczanie elementów specjalnych,
Numer biuletynu: 1
Pozycja w biuletynie: 355155
Data publikacji: 2008-12-08
Nazwa: Instytut Obróbki Plastycznej
Ulica: ul. Jana Pawła II 14
Numer domu: 14
Miejscowość: Poznań
Kod pocztowy: 61-139
Województwo / kraj: wielkopolskie
Numer telefonu: 061 6570720
Numer faxu: 061 6570721
Adres strony internetowej: inop@inop.poznan.pl
Regon: 00003240200000
Typ ogłoszenia: ZP-400
Czy jest obowiązek publikacji w biuletynie: Tak
Ogłoszenie dotyczy: 1
Rodzaj zamawiającego: Inny: jednostka badawczo-rozwojowa
Inny rodzaj zamawiającego: jednostka badawczo-rozwojowa
Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego: Stanowisko do pomiaru chropowatości i konturu
Rodzaj zamówienia: D
Przedmiot zamówienia:
Stanowisko do pomiaru chropowatości i konturu
1. Pomiar chropowatości:
1.1. Opis stanowiska:
-minimalna długość pomiarowa X: co najmniej 60mm
-prostoliniowość X: co najmniej 0,2 µm na dł. 60 mm
-próbkowanie w osi X: co najmniej 100 punktów na mikrometr
-możliwość pomiaru przy dowolnie podawanych prędkościach przesuwu w zakresie 0,01 - 3 mm/s
-kolumna pomiarowa: o wysokości co najmniej 800 mm, zmotoryzowana
-granitowa płyta pomiarowa o wymiarach minimum 600x500 mm z rowkiem teowym
-maksymalny zakres fizyczny głowicy do pomiaru chropowatości Z: nie mniej niż 1200 µm
-minimalna rozdzielczość Z głowicy do pomiaru chropowatości: nie więcej niż 3 nm
-promień końcówki pomiarowej: nie większy od 5 µm
-możliwość pomiaru przy głowicy obróconej o 90 stopni wokół osi pionowej
-możliwość obrotu głowicy pomiarowej na kolumnie co najmniej +/- 45 stopni
-elektronika oparta o komputer PC z monitorem TFT i drukarką oraz standardowymi akcesoriami
1.2. Oprogramowanie sterujące i obliczające pracujące w języku polskim, w środowisku Windows i umożliwiające:
-wykonanie profilu i analizę parametrów chropowatości R, falistości W i profilu niefiltrowanego P
-wykonanie profilu i analizę parametrów falistości dominującej pierwszej WD1 i drugiej WD2 oraz udziału materiałowego Rk
-tworzenie programów pomiarowych
-pomiar wszystkich standardowo używanych parametrów i funkcji opisu nierówności powierzchni
-powiększanie dowolnego wycinka profilu
-tworzenie indywidualnych interfejsów użytkowników
-wycinanie profilu
-analizę Fouriera
-pomiar odcinka pomiarowego o dowolnie wybranej długości w zakresie pomiarowym
-analizę i wyznaczenie wybranych parametrów zarówno dla pełnego zarejestrowanego odcinka, jak również dla wybranej części zmierzonego profilu
-wykorzystanie wszystkich powszechnie stosowanych filtrów stosowanych w pomiarach chropowatości
-wprowadzenie tolerancji analizowanych parametrów
-wyznaczenie krzywej udziału materiałowego
-wyznaczenie krzywej rozkładu amplitudowego
2. Pomiar konturu
2.1. Opis stanowiska:
-minimalna długość pomiarowa X: co najmniej 60 mm
-prostoliniowość X: co najmniej 0,2 µm na dł. 60 mm
-próbkowanie w osi X: co najmniej 100 punktów na mikrometr
-możliwość pomiaru przy dowolnie podawanych prędkościach przesuwu w zakresie 0,01 - 3 mm/s
-maksymalny zakres fizyczny głowicy do pomiaru konturu Z: nie mniej niż 1200 µm
-możliwość podłączenia do oferowanej jednostki posuwowej głowicy o zakresie co najmniej 60 mm przy minimalnej rozdzielczości Z nie więcej niż 50 nm w całym zakresie pomiarowym,
-możliwość dodatkowego pomiaru mikrokonturu głowicą standardowo wykorzystywaną do pomiaru chropowatości
2.2. Oprogramowanie sterujące i obliczające pracujące w języku polskim, w środowisku Windows i umożliwiające:
-obliczanie cech geometrycznych: długości, promienie, kąty, itp.
-tworzenie układu referencyjnego
-tworzenie elementów wynikowych z cech geometrycznych (punktu przecięcia, linie teoretyczne, itp.)
-importu profili nominalnych z plików typu CAD i porównania profilu zmierzonego z nominalnym
-przeprowadzenie przez operatora kalibracji (zmiany współczynników)
-tworzenia własnych programów pomiarowych
-obliczanie elementów specjalnych,
Kody CPV: 332620004
Czy zamówienie jest podzielone na części: Nie
Czy dopuszcza się złożenie oferty wariantowej: Nie
Czy przewiduje się udzielenie zamówień uzupełniających: Nie
Czas: D
Data zakończenia: 31/12/2008
Informacja na temat wadium: nie dotyczy
opis_war:
uczestnicy spełniający warunki zawarte w art.22 Pzp.
inf_osw:
aktualny odpis z właściwego rejestru, oświadczenie o spełnieniu warunków udziału
Kod trybu postepowania: PN
Kod kryterium cenowe: A
Czy wykorzystywana będzie aukcja: Nie
Adres strony internetowej specyfikacji i warunków zamówienia: www.inop.poznan.pl
Adres uzyskania specyfikacji i warunków zamówienia: j/w
Data składania wniosków, ofert: 16/12/2008
Godzina składania wniosków, ofert: 10:00
Miejsce składania:
Siedziba zamawiającego, pokój 126 lub sekretariat
On: on
Termin związania ofertą, liczba dni: 30
Informacje dodatkowe: nie dotyczy
Podobne przetargi
299247 / 2008-11-04 - Inny: instytut naukowo-badawczy
Instytut Fizyki Molekularnej PAN - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
urządzenie do wytwarzania taśm amorficznych metodą szybkiego schładzania z fazy ciekłej oraz pieca łukowefgo z generatorem prądu topienia
306461 / 2008-11-07 - Inny: nauka
Instytut Dendrologii PAN - Kórnik (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Aparatura do elektroforezy oraz unowocześnienie oprogramowania do analizy obrazów białek z możliwością współpracy z posiadaną przez Instytut aparaturą.
213864 / 2008-09-05 - Uczelnia publiczna
Politechnika Poznańska - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Dostawa fabrycznie nowego mikroskopu sond skanujÄ…cych AFM/STM.
256634 / 2008-12-08 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa
Przemysłowy Instytut Maszyn Rolniczych - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Elektryczny układ zadawania wymuszeń (w obudowie przemysłowej) z czujnikiem siły .
1882 / 2009-01-07 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa
Instytut Obróbki Plastycznej - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Stanowisko do pomiaru chropowatości i konturu
2740 / 2009-01-09 - Inny: jednostka badawczo-rozwojowa
Przemysłowy Instytut Maszyn Rolniczych - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Elektryczny układ zadawania wymuszeń (w obudowie przemysłowej) z czujnikiem siły .
323331 / 2008-11-20 - Inny: nauka
Instytut Dendrologii PAN - Kórnik (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Aparatura do elektroforezy oraz unowocześnienie oprogramowania do analizy obrazów białek z możliwością współpracy z posiadaną przez Instytut aparaturą..
204727 / 2008-09-01 - Inny: nauka
Instytut Dendrologii PAN - Kórnik (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
dostawa spektrometru do analizy mineralnej
352303 / 2008-12-05 - Uczelnia publiczna
Uniwersytet im. A. Mickiewicza - Poznań (wielkopolskie)
CPV: 332620004 ()
Zakup i dostawa