313624 / 2012-08-24 - Podmiot prawa publicznego / Instytut Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy (Warszawa)

Oryginalny toner A06V352 Purpurowy marki Minolta

Cena: 619.07 PLN

SYSTEM GAS-PUFF DLA PF-1000U

Opis zamówienia

Przewiduje się wyposażenie układu PF-1000 w dwa niezależne systemy dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym. Poniżej przedstawiono postawowe parametry obu systemów

Poosiowy system gas-puff dla PF1000
Poosiowy system dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym winien spełniać następujące funkcje:
1. Wytworzyć osiowo symetryczną konfigurację gazu roboczego (walcową i rurową) będącą przedłużeniem anody
2. Być odpornym na zaburzenia elektromagnetyczne towarzyszące silnoprądowemu (około 2 MA) wyładowaniu w układzie PF-1000
3. Umożliwić pracę z zapewnieniem impulsowej (1,2/50µs) izolacji elektrycznej o wartości nie mniejszej niż 100kV

System winien składać się z następujących zespołów spełniających powyższe wymagania fukcjonalne:
1. Źródła udarów prądowych, o amplitudzie rzędu 20kA, energii baterii kondensatorów nie mniejszej niż 5kJ z napięciem pracy do 4kV
2. Układu elektrodynamicznego sterowanego zaworu pozwalającego na iniekcję gazu roboczego do obszaru próżni w określonym czasie, wyposażonego w próżniowe przepusty gazowe i wielkoprądowe umożliwiające zasilenie zaworu
3. Zmodyfikowanej konstrukcji czoła anody, pozwalającej na przyłączenie modułu zaworu typu gas-puff.

Przyizolatorowy (radialny) system gas-puff dla PF1000
Przyizolatorowy system dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym winien spełniać następujące funkcje:
1. Wytworzyć symetryczną konfigurację gazu roboczego wokół izolatora, tak aby po załączeniu generatora udarów prądowych powstała symetryczna warstwa plazmy
2. Być odpornym na zaburzenia elektromagnetyczne towarzyszące silnoprądowemu (około 2 MA) wyładowaniu u układzie PF-1000
3. Umożliwić pracę z zapewnieniem impulsowej (1,2/50µs) izolacji elektrycznej o wartości nie mniejszej niż 100kV

System winien składać się z następujących zespołów spełniających powyższe wymagania fukcjonalne:
1. Źródła udarów prądowych, o amplitudzie rzędu 60kA, energii baterii kondensatorów nie mniejszej niż 15kJ z napięciem pracy do 4kV
2. Sześciu układów elektrodynamicznie sterowanych zaworów pozwalających na radialną iniekcję gazu roboczego do obszaru próżni w okolicach izolatora, w określonym czasie, wyposażonego w próżniowe przepusty gazowe i wielkoprądowe umożliwiające zasilenie zaworów
3. Zmodyfikowanej konstrukcji katody, pozwalającej na przyłączenie zespołu 6 zaworów typu gas-puff.

Numer biuletynu: 1

Pozycja w biuletynie: 313624

Data publikacji: 2012-08-24

Nazwa: Instytut Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy

Ulica: ul. Hery 23

Numer domu: 23

Miejscowość: Warszawa

Kod pocztowy: 01-497

Województwo / kraj: mazowieckie

Numer telefonu: 22 6381460, 6838610

Numer faxu: 22 6668372

Adres strony internetowej: www.ifpilm.waw.pl

Regon: 01037192952000

Typ ogłoszenia: ZP-400

Czy jest obowiązek publikacji w biuletynie: Tak

Ogłoszenie dotyczy: 1

Rodzaj zamawiającego: Podmiot prawa publicznego

Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego: SYSTEM GAS-PUFF DLA PF-1000U

Rodzaj zamówienia: D

Przedmiot zamówienia:
Przewiduje się wyposażenie układu PF-1000 w dwa niezależne systemy dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym. Poniżej przedstawiono postawowe parametry obu systemów

Poosiowy system gas-puff dla PF1000
Poosiowy system dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym winien spełniać następujące funkcje:
1. Wytworzyć osiowo symetryczną konfigurację gazu roboczego (walcową i rurową) będącą przedłużeniem anody
2. Być odpornym na zaburzenia elektromagnetyczne towarzyszące silnoprądowemu (około 2 MA) wyładowaniu w układzie PF-1000
3. Umożliwić pracę z zapewnieniem impulsowej (1,2/50µs) izolacji elektrycznej o wartości nie mniejszej niż 100kV

System winien składać się z następujących zespołów spełniających powyższe wymagania fukcjonalne:
1. Źródła udarów prądowych, o amplitudzie rzędu 20kA, energii baterii kondensatorów nie mniejszej niż 5kJ z napięciem pracy do 4kV
2. Układu elektrodynamicznego sterowanego zaworu pozwalającego na iniekcję gazu roboczego do obszaru próżni w określonym czasie, wyposażonego w próżniowe przepusty gazowe i wielkoprądowe umożliwiające zasilenie zaworu
3. Zmodyfikowanej konstrukcji czoła anody, pozwalającej na przyłączenie modułu zaworu typu gas-puff.

Przyizolatorowy (radialny) system gas-puff dla PF1000
Przyizolatorowy system dynamicznego napełniania komory eksperymentalnej gazem roboczym winien spełniać następujące funkcje:
1. Wytworzyć symetryczną konfigurację gazu roboczego wokół izolatora, tak aby po załączeniu generatora udarów prądowych powstała symetryczna warstwa plazmy
2. Być odpornym na zaburzenia elektromagnetyczne towarzyszące silnoprądowemu (około 2 MA) wyładowaniu u układzie PF-1000
3. Umożliwić pracę z zapewnieniem impulsowej (1,2/50µs) izolacji elektrycznej o wartości nie mniejszej niż 100kV

System winien składać się z następujących zespołów spełniających powyższe wymagania fukcjonalne:
1. Źródła udarów prądowych, o amplitudzie rzędu 60kA, energii baterii kondensatorów nie mniejszej niż 15kJ z napięciem pracy do 4kV
2. Sześciu układów elektrodynamicznie sterowanych zaworów pozwalających na radialną iniekcję gazu roboczego do obszaru próżni w okolicach izolatora, w określonym czasie, wyposażonego w próżniowe przepusty gazowe i wielkoprądowe umożliwiające zasilenie zaworów
3. Zmodyfikowanej konstrukcji katody, pozwalającej na przyłączenie zespołu 6 zaworów typu gas-puff.

Kody CPV:
389700005 (Badawcze, testowe i naukowe symulatory techniczne)

Czy zamówienie jest podzielone na części: Nie

Czy dopuszcza się złożenie oferty wariantowej: Nie

Czy przewiduje się udzielenie zamówień uzupełniających: Nie

Czas: D

Data zakończenia: 31/12/2012

Informacja na temat wadium: Nie jest wymagane.

Zaliczka: Nie

Uprawnienia: złożenie oświadczenia

Wiedza i doświadczenie: złożenie oświadczenia

Potencjał techniczny: złożenie oświadczenia

Osoby zdolne do zrealizowania zamówienia: złożenie oświadczenia

Sytuacja ekonomiczna: złożenie oświadczenia

Oświadczenie wykluczenia nr 1: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

Dokumenty podmiotów zagranicznych: Tak

III.7 osoby niepełnosprawne: Nie

Kod trybu postepowania: PN

Czy zmiana umowy: Nie

Kod kryterium cenowe: A

Czy wykorzystywana będzie aukcja: Nie

Adres strony internetowej specyfikacji i warunków zamówienia: www.ifpilm.pl

Adres uzyskania specyfikacji i warunków zamówienia:
Instytut Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy
ul. Hery 23,
01-497 Warszawa
budynek administracji pok. 26

Data składania wniosków, ofert: 03/09/2012

Godzina składania wniosków, ofert: 10:30

Miejsce składania:
Instytut Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy
ul. Hery 23,
01-497 Warszawa
budynek administracji pok. 26

On: O

Termin związania ofertą, liczba dni: 30

Czy unieważnienie postępowania: Nie

Podobne przetargi